高纯度气体管道是高纯度气体供气系统的重要组成部分，是将符合要求的高纯度气体送至用气点保持质量合格的关键，包括系统设计、管件及配件选择、施工安装及试验等。半导体技术是 20 半导体制造技术是世纪以来最伟大、最具活力的技术，它贯穿于高纯气体的提供，原料硅的提炼，晶圆的生产，IC 包装和测试的全过程。体现当今世界高科技水平的微电子商品，正以高性能、低成本为目标，高速向高密度、高集成发展，对气体杂质含量的限制更加严格。相应的高纯度、高清洁气体及其管道的输配系统变得非常重要和重要。亚微米级(低于1um) )集成电路高纯气体杂质的控制水平为0.1xl0-6，详见下表：
例如某集成电路厂房生产线宽 0.18um 、直径 200mm 芯片，各种杂质的高纯气体控制水平 10xl0-9，其所用气体见下表：
预计很快就会达到纳米线距离，气体杂质 H20 、O2 、CO、CO 2、TH C 等级要求将低于10-12级(每一类) )。如此高纯度的气体由管道输送，能否将高纯度的气体输送到用气点，保持质量合格的关键在于供气系统设计合理，管件及附件选择正确，施工安装正确，实验检测合格。
